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三氟化氮

 

CAS No.: 7783-54-2;分子量:71; 分子式:NF3

物化特性:三氟化氮为无色、无臭、性质稳定的液化气体,熔点:-206.80°C;沸点:-1290°C; 临界温度:-39.30°C;临界压力:44.02atm (4.46MPa);液体密度:1554Kg/m3 (1atm, 沸点时) 气体密度:2.95kg/m3 (1atm, 210°C);水中溶解度(1atm,22C):1.43*10当量浓度;纯净的NF3气体是一种无色无味的气体,当混入一定量的杂质气体后颜色发黄,同时会有发霉或刺激性气味。NF3气体不可燃,但能助燃。当温度超过350°C时,三氟化氮气体会慢慢分解,分解时产生强氧化性氟,因此,在高温下它是一种强氧化剂。

危险性类别:第2.3类有毒气体。

NF3气体用途:

NF3气体主要用于微电子工业集成电路、大型屏幕液晶显示屏中性能优良的蚀刻气体、清洗剂,作为刻蚀剂和清洗剂具有快速、高效等优点。

高纯三氟化氨几乎没有气味,它是一种热力学稳定的氧化剂,大约在350℃左右可离解成为二氟化氮和氟气,故其反应性相似于氟。三氟化氮用作氧化剂时,在发生反应的同时,可作为二氟化氮游离基的供给源。三氟化氮主要用途是用作氟化氢-氟化氘高能化学激光器的氟源,在H2、O2与F2之间反应能的有效部分(约25%)可以以激光辐射释放出,所以激光器是化学激光器中最有希望的激光器。

三氟化氮是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体,对硅和氮化硅蚀刻,采用三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,而且对表面无污染,尤其是在厚度小于1.5μm的集成电路材料的蚀刻中,三氟化氮具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术,需求量将日益增加。

NF3气体产品技术指标:

Grade

LYF-14001

LYF-14002

NF3 % (V/V) ≥

99.99

99.95

(O2 + Ar) (V/V) ≤

50 ppm

5 ppm

N2 (V/V) ≤

50 ppm

10 ppm

CO (V/V) ≤

10 ppm

5 ppm

CO2 (V/V) ≤

10 ppm

5 ppm

CF4 (V/V) ≤

150 ppm

60 or 40 ppm

N2O (V/V) ≤

2 ppm

2 ppm

H2O (V/V) ≤

1 ppm

1 ppm

Acidity (V/V) ≤

1 ppm

1 ppm

SF6 (V/V) ≤

2 ppm

2 ppm

包装:NF3气体采用钢质无缝气瓶盛装,钢瓶容积:48.8L43.3L8L。 钢瓶型号:DOT-3AAGB 5099 阀 门:CGA 330。钢瓶压力:11.0 MPA 气体质量:22kg20kg3.4kg。 包装分类:‖ 包装标志:6。上述包装方式可根据用户需要定制更改。

储存及运输:NF3气瓶应储存于阴凉、通风仓库内,仓库温度不宜超过300°C。NF3气瓶应远离火种、热源、防止阳光直射,与还原剂、易燃或可燃物等分开存放。NF3气瓶在搬运时要轻装、轻卸,防止钢瓶及附件破损。NF3气瓶的运输按危险品运输。运输时用气瓶固定架将NF3气瓶固定好,用汽车公路运输或用轮船集装箱运输。

泄漏应急处理:如遇有NF3气体泄露,工作人员要马上撤离泄漏区,并尽可能采取措施阻止NF3气体的进一步泄露。如有工作人员中毒,应立即送往医院救治。泄露现场要尽快处理,处理泄露现场的工作人员必须配戴必要的防毒面具,最好是自给正压式呼吸器。泄露现场经检测无危害气体后方可进入工作人员,泄露容器必须经仔细检查、维修或妥善处理好后方可继续使用。

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